在真空炉内零件渗碳的控制方法

 　本发明涉及的内容,是在真空护内零件渗碳的控制方法,当把碳载体的碳氢化合物气体通入真空炉内时,可用这种方法进行控制。分别在真空和负压下的渗碳是众所周知的。可用碳氢化合物气体作为气体渗碳剂,而最常用的是甲烷。在炉内的若干气体成分是已知的,例如是CH‘和N:,或是CH‘+CO十N:、一H:。用这些方法,由于在气体和渗碳钢所需碳量之间没有形成化学平衡状态,故必须采取在气体中供给过多碳的措施,例如通过供给0H4的办法。这种必要的过多碳氢化合物气体供给量有个缺点,就是在其反应过程尚未达到钢件表面便产生游离碳,譬如甲烷的反应CH‘=C+ZH:炭黑由这种游离碳而产生,随着浓度增高,这种炭黑便成炭黑云而可见。它有两个缺点:一、是妨碍渗碳;二、是污染渗碳件和炉子。另外在电加热炉中还有引起短路的危险。为了减少炭黑,早已采用固定脉冲或多少按照数量和时间调节脉冲的方式,对供给真空炉的碳氢化合物气体量进行控制。但这种方法不能获得有效结果,而且对于形成一定的渗层深度和一定的边界含碳量有不足之处,就是为了得到与炭黑形成有关的更好的综合效果,需要对多数不同渗碳件通过试验确定脉冲程序。因此,只有在不同条件下做大量试验。